临界状态
同一临界点,两种工艺基础
CO₂ 临界点为 31.1 °C、7.38 MPa;温压越过临界值后形成均一流体相。
01工艺原理
干燥利用 CO₂ 的单相路径降低毛细压力损伤;萃取利用其可调溶解能力完成提取与分离。
临界状态
CO₂ 临界点为 31.1 °C、7.38 MPa;温压越过临界值后形成均一流体相。
干燥路径
中间溶剂、液态 CO₂ 依次置换孔隙液,升温跨临界后缓慢卸压,降低毛细压力损伤。
萃取路径
高密度 CO₂ 溶解携带目标组分,降压或调温后使其析出,CO₂ 回收循环。
02标准设备
从桌面制样、大尺寸验证到晶圆级干燥,再到天然产物萃取。
每款设备都配有 CO2 增压、换热、分离回收与控制联锁的完整系统方案。
实验室桌面式
把自动化 CO2 干燥放上实验台,一键启动完成多数样品干燥。适合:桌面研发、电镜制样、气凝胶与小尺寸微纳结构。
查看 KM-P 详情
小批量与中试
面向大尺寸样品与小批量验证,兼顾处理量、程序管理与批次比较。适合:更大仓体、8 英寸晶圆治具或更高处理量验证。
查看 KM-V 详情
晶圆产线级
面向 8/12 英寸晶圆干燥导入,覆盖晶圆清洗后的超临界干燥工艺。适合:晶圆级洁净、自动釜盖和现场自动化接口评估。
查看 KM-S 详情
萃取与中试
用于天然产物、食品、医药中间体和精细化学品的超临界 CO2 萃取。适合:关注萃取釜、共溶剂、分离釜和 CO2 回收的项目。
查看 SiLen 详情围绕干燥和萃取主机配置增压、换热、冷凝分离、回收循环和控制模块。适合:需要把增压、换热、回收与联锁接入主机或定制系统。
03参数对比
干燥设备按样品尺寸、批量和洁净等级选 KM-P、KM-V 或 KM-S;萃取设备按釜体、压力、共溶剂和分离配置选 SiLen 深蓝。
| 系列 | 适用场景 | 样品仓/釜体 | 压力范围 | 温度范围 | 关键配置 |
|---|---|---|---|---|---|
| KM-P | 实验室桌面式、SEM/TEM 制样、小尺寸样品 | 2.5–3.4 英寸,100–200 mL | 工作 0–1500 psi;安全上限 2000 psi | 工作 0–50 °C;安全上限 55 °C | 触控程序、组合样品仓,过滤等级按具体配置确认 |
| KM-V | 小批量验证、大尺寸样品、8 英寸晶圆治具 | KM-V6 约 679 mL;KM-V8 约 1162 mL;深仓方案按项目确认 | 0–2000 psi | −30–60 °C | 闭环制冷、冷凝器、填充环、8 英寸晶圆提篮;片数按仓体与治具确认 |
| KM-S | 8/12 英寸晶圆、洁净产线、自动化导入 | 13 英寸仓体,最高 17 L,按治具支持多片晶圆 | 0–3500 psi | −30–80 °C | 自动釜盖、316L 接液部件、洁净过滤与现场接口评估 |
| SiLen | 天然产物、食品、医药、精细化学品萃取 | 200 mL 一体机;500 mL–3 L 可配置,1 L 级标准 | 釜体最高 52 MPa;系统压力按泵与方案确认 | 公开工作窗口室温–50 °C;部分配置可至 80 °C | 双柱塞泵、共溶剂泵、单级/双级分离、CO2 回收模块按方案配置 |
04技术实力
液态 CO2 的大压差降温、干冰易堵、低温密封和高压调节,是超临界设备最容易出问题的环节。我们从这些工况出发设计关键部件,再在整机中完成完整流程验证。
关键部件
液态 CO2 进液、止回和背压控制的精度直接影响样品安全。三款阀门按实际工艺窗口设计,兼顾流向控制、进液速率、背压曲线与低温密封寿命,是团队共同研发的专利成果。
我们是谁北京世安科林 · KiMax极境超临界工艺
05定制服务
从样品测试和工艺评估开始,经过方案设计、装配调试到现场交付,由同一支工程团队全程负责。以下四类需求是定制项目的典型起点。
处境一
样品尺寸、批量或溶剂体系超出现有仓体规格,CO2 供给、增压、换热、分离、回收各环节需要按项目要求定制设计。
处境二
工艺需要更高的压力、更宽的温度范围,或要在特定温压曲线上稳定运行,现有设备到不了。
处境三
设备要接入现场 MES、报警或洁净环境,控制逻辑、数据接口和材料配置,都要按现场边界确定。
处境四
萃取和清洗流程中的腐蚀性气液,普通管件与阀件无法长期耐受,接液材料、密封与阀控需要按介质特性定制。
交付路径
先在现有设备上完成样品工艺测试,评估后再确定定制范围。方案设计、装配调试和现场安装由同一支工程团队负责到底,直至按双方约定的验收项目逐项确认完成。
寄送样品,在现有设备上完成工艺循环测试,评估窗口与可行性。
输出流程方案、结构方案和部件清单,双方确认实现边界。
完成气密、温压控制、完整循环和安全联锁的出厂测试并记录。
工程师现场安装调试与操作培训,按约定验收项目逐项确认。
06应用场景
生物样品、凝胶和精细结构制样,减少形貌塌陷与收缩。
晶圆湿法清洗后的无损干燥、MEMS 悬臂梁释放与传感器结构保护。
高孔隙率材料、MOF 和凝胶体系,降低孔结构坍塌与开裂风险。
围绕原料粒径、装料密度、温压程序与夹带剂条件进行筛选,评估目标成分的收率与选择性。
用实际样品验证置换路径与程序窗口,为设备选型提供依据。
按分离压力梯度收集轻组分、油相与蜡质馏分,比较析出顺序、纯度和质量平衡。
常见问题
关于设备选型、样品测试、临界点干燥原理和萃取配置,这里是被问得最多的几个问题。
KM-P 适合桌面式研发和电镜样品制备,KM-V 适合大尺寸样品、小批量验证和 8 英寸晶圆治具,KM-S 适合 8/12 英寸晶圆和洁净产线自动化导入。
普通烘干形成的液—气弯月面可能产生毛细压力。超临界 CO₂ 干燥先完成溶剂置换,再进入超临界区并沿单相路径卸压,减少毛细压力对 MEMS、气凝胶和微纳结构的损伤。
可以。建议先确认样品尺寸、溶剂置换方式、目标结构、产量和洁净要求,再选择 KM-P、KM-V、KM-S 或 SiLen 配置。
支持。可围绕样品仓、萃取釜、压力温度窗口、CO2 流程、分离回收、PLC/HMI 控制、安全联锁和现场接口进行定制设计。
提供。SiLen 深蓝超临界萃取系统适合天然产物、食品、医药中间体和精细化学品研发,可根据釜体规格、压力范围、共溶剂和分离配置选型。
通常需要先确认样品尺寸、溶剂体系、置换步骤、目标形貌和洁净要求。若样品含水或含特殊溶剂,应提前沟通置换路径和兼容性。
可按需求配置洁净过滤、316L 管路、压力温度曲线记录、报警记录、PLC/HMI 控制和数据导出,晶圆或产线场景可进一步沟通接口对接。
建议准备样品类型、尺寸、批量、溶剂状态、目标形貌、压力温度范围、洁净等级、现场接口和是否需要非标自动化。
联系咨询
告诉我们样品类型、尺寸、批量和洁净要求;萃取项目再说明原料形态、目标成分和处理量即可。也可以先寄样测试,用真实结果验证工艺窗口再决定选型。